超纯铝靶基材
可生产纯度为99.9%至99.9999%的高纯铝产品，建有大型高纯铝智能化生产基地，拥有完全自主知识产权、具备较强竞争力的高纯铝装备及相关提纯工艺技术。
产品优势
纯度高
拥有三层法、偏析法、晶析法、区域熔炼法四种提纯工艺，铝纯度可达到99.99995%（6N5）
低缺陷
高纯铝靶材棒材坯料采用水浸超声探伤检测内部≥0.5mm缺陷为0。
细晶化
靶材坯料晶锻造加工变形后平均晶粒尺寸<100μm，有利于溅射镀膜的稳定性及厚度一致性
应用场景
应用于半导体芯片
应用于液晶显示
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